儀德科學專業代理日本理學ZSX PrimusIV波長色散X射線光譜儀，波長色散型光譜儀可解決多種不同類型樣品金屬元素分析，有效快速幫助各類行加工、生產。本文章分享ZSX PrimusIV波長色散X射線光譜儀這款設備的特點。

硬件安全、軟件安心、維護方便
萬一的失誤導致儀器損壞令人十分痛心。高性能的精密分析儀器ZSX PrimusIV設計為即便粉末樣品發生粉末飛散也不會損壞儀器的上照射方式。在軟件上也設計為防止操作失誤的用戶分級管理方式。

即便粉末樣品松散下落也不會污染光學系統-上照射方式
因為采用上照射方式粉末壓片樣品的粉末飛散、下落也不會貴給光學系統造成影響。也不需要粘貼樣品保護薄膜。

新技術的采用和精細的設計-奠定
ZSX PrimusIV的各組件都使用著先端的要素技術，加之微細處因此，無論是對要求高精細的研究，還是對大量測量的日常質量。

液體樣品分析用真空封擋系統
在樣品室和分析室之間以隔壁封擋方式自動置換氦氣，大幅度縮短了由真空向氦氣光路的置換時間。

液體樣品盒自動識別機構
分析液體樣品時，樣品室需要置換成He氣氛圍。通過液體樣品盒自動識別機構可以避免液體樣品盒在真空狀態下進入樣品室，從而放心地測量液體樣品。

樣品盒位置一目了然
樣品臺正面和右側面均為透明窗，所以坐在計算機前操作儀器的同時可以一-目了然地確認分析樣品的位置。

不需要PR氣體的S-PCLE
可以選配測量輕元素的氣體封閉型正比計數器(S-PCLE)。方便在難以購置PR氣體的地方使用。注:使用F-PC檢測器時，必須使用檢測器用氣體(PR氣體)。

*的光學系統-減少樣品表面不平整的影響
被測量樣品表面凹凸不平的話，分析面與X光管的距離便有差異，這樣的距離差異會帶來強度變化。理學儀器的光學系統可以減少由于距離不同引起的X光強的變化。
玻璃熔片時由于坩堝之間底部形狀的差異造成的影響、粉末壓片時樣品表面凹凸的影響等都可通過此光學系統予以校準,得到更加準確的分析。

高靈敏度彎晶
可配置PET彎晶和Ge彎晶。高靈敏度Ge彎晶與平晶相比，對P、S的靈敏度提高了30%;高靈敏度PRT彎晶與平晶相比，Al、Si的靈敏度提高了30%。也可以使用在SQX程序中，提高無標樣定量分析的靈敏度。

一次X射線濾光片
設置在X射線光管和樣品之間，用于減輕X射線光管發出的連續X射線或特征X射線對分析譜線的妨礙。

散射線SQX
使用散射線強度來推定樣品中非測量成分的超輕元素(C、H、O、N)的影響,對污泥、水垢等含有非測量成分的樣品,不做非測量成分設定便可進行更加準確的近似定量分析。