X射線熒光光譜儀簡介

采用X射線熒光光譜儀（X-rayFluorescenceSpectrometer，簡稱：XRF光譜儀）測量，是一種快速的、非破壞式的物質測量方法。X射線熒光（X-rayfluorescence，XRF）是用高能量X射線或伽瑪射線轟擊材料時激發出的次級X射線。

X射線熒光分析被廣泛應用于元素和化學分析，特別是在金屬，玻璃，陶瓷和建材領域的調查和研究。在地球化學，法醫學，考古學和藝術品等領域也有涉及，例如油畫和壁畫的鑒定。

X射線熒光的物理原理

當材料暴露在短波長X光檢查或伽馬射線時，其組成原子可能會發生電離。如果原子是暴露于輻射與能源大于它的電離時，就足以驅逐內層軌道的電子，然而這會使得原子的電子結構不穩定。此時，在外軌道的電子就會“回補”進入低軌道，以填補遺留下來的洞。

回補”的過程會釋出多余的能源，光子能量是相等兩個軌道的能量差異。因此，物質放射出的輻射，這是原子的能量特性。

X射線熒光光譜儀的使用型態

XRF用X光或其他激發源照射待分析樣品，樣品中的元素之內層電子被擊出，造成核外電子的躍遷。在被激發的電子返回基態的時候，會放射出特征X光。元素不同，會放出不同的各自特征的X光，并且具有不同的能量和波長特性。

檢測器(Detector)接受這些X光，儀器軟件系統將其轉為對應的信號。在某種程度上X射線光譜儀與原子吸收光譜儀互補，大大減少了工廠附設的品管實驗室的分析人力投入。